C - Chemistry – Metallurgy – 08 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
F
C08F 214/20 (2006.01) C08J 3/24 (2006.01) C08L 27/14 (2006.01) C09D 127/14 (2006.01)
Patent
CA 2671991
The present invention provides a vinyl fluoride copolymer comprising: about 40 to about 90 mole % of repeat units derived from vinyl fluoride; and about 10 to about 60 mole % of repeat units derived from monomer selected from the group consisting of (a) and (b) below and mixtures thereof, with the proviso that about 0.1 mole % to 50 mole % of repeat units in the copolymer are derived from monomer selected from (b): (a) monomer selected from the group consisting of, tetrafluoroethylene, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene and mixtures thereof; and (b) vinyl monomer containing at least one functional group selected from the group consisting of hydroxyls, thiols, carbonyls, carboxylic acids, carboxylic esters, acid anhydrides, sulfonyls, sulfonic acids, sulfonic esters, phosphoric acids, phosphoric esters, boric acids, boric esters, epoxies, isocyanates, thiocyanates, amines, amides, nitriles and halogen selected from bromide and iodide.
La présente invention concerne un copolymère de fluorure de vinyle comprenant un pourcentage molaire d'environ 40 à environ 90% d'unités de répétition dérivées de fluorure de vinyle et un pourcentage molaire d'environ 10 à environ 60% d'unités de répétition dérivées d'un monomère sélectionné dans le groupe composé de (a) et de (b) et de mélanges de ceux-ci, à condition qu'un pourcentage molaire d'environ 0,1% à 50% des unités de répétition du copolymère soit dérivé d'un monomère sélectionné dans (b): (a) un monomère sélectionné dans le groupe composé de tétrafluoroéthylène, de trifluoroéthylène, de chlorotrifluoroéthylène et de mélanges de ceux-ci; et (b) d'un monomère de vinyle contenant au moins un groupe fonctionnel sélectionné dans le groupe composé d'hydroxyles, de thiols, de carbonyles, d'acides carboxyliques, d'esters carboxyliques, d'anhydrides acides, de sulfonyles, d'acides sulfoniques, d'esters sulfoniques, d'acides phosphoriques, d'esters phosphoriques, d'acides boriques, d'esters boriques, d'époxys, d'isocyanates, de thiocyanates, d'amines, d'amides, de nitriles et d'halogène sélectionné parmi le bromure et l'iodure.
Uschold Ronald Earl
Wang Jian
Yamamoto Masahiro
Dupont-Mitsui Fluorochemicals Company Ltd.
E. I. Du Pont de Nemours And Company
Torys Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2047889