Crucible for the crystallization of silicon and process for...

C - Chemistry – Metallurgy – 30 – B

Patent

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Details

C30B 11/00 (2006.01) C04B 35/584 (2006.01)

Patent

CA 2624887

The invention relates to a crucible for the crystallization of silicon and to the preparation and application of release coatings for crucibles used in the handling of molten materials that are solidified in the crucible and then removed as ingots, and more particularly to release coatings for crucibles used in the solidification of polycrystalline silicon. The objective of the inventor was to provide a crucible comprising a silicon nitride coating which is faster and cheaper to produce and which is stronger with an improved adherence to the walls. It has now been found that these problems can be solved with a crucible for the crystallization of silicon comprising a) a base body comprising a bottom surface and side walls defining an inner volume; b) a protective coating comprises 80 to 95 wt. % of silicon nitride and 5 to 20 wt. of a low temperature mineral binder, the total oxygen content ranging from 5 to 15 % by weight.

La présente invention concerne un creuset pour la cristallisation de silicium et la préparation et l'application de revêtements anti-adhésifs pour des creusets utilisés dans la manipulation de matériaux fondus qui sont solidifiés dans le creuset et ensuite retirés sous forme de lingots, et plus particulièrement de revêtements anti-adhésifs pour des creusets utilisés dans la solidification du silicium polycristallin. Le but de l'inventeur était d~obtenir un creuset comprenant un revêtement de nitrure de silicium qui peut être produit de manière plus rapide et à un meilleur coût et qui est résistant avec une meilleure adhérence aux parois. On a maintenant constaté que ces problèmes peuvent être résolus avec un creuset destiné à la cristallisation du silicium comprenant a) un corps de base comprenant une surface de fond et des parois latérales définissant un volume interne ; b) un revêtement protecteur comprenant de 80 à 95 % en poids de nitrure de silicium et de 5 à 20 % en poids d'un liant minérale à basse température, la teneur totale en oxygène étant comprise entre 5 et 15 % en poids.

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