C - Chemistry – Metallurgy – 25 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
25
D
C25D 3/06 (2006.01) C25D 3/10 (2006.01)
Patent
CA 2700147
An electrodeposited crystalline functional chromium deposit which is nanogranular as deposited, and the deposit may be both TEM and XRD crystalline or may be TEM crystalline and XRD amorphous. In various embodiments, the deposit includes one or any combination of two or more of an alloy of chromium, carbon, nitrogen, oxygen and sulfur; a {111} preferred orientation; an average crystal grain cross-sectional area of less than about 500 nm2; and a lattice parameter of 2.8895 +/- 0.0025 A. A process and an electrodeposition bath for electrodepositing the nanogranular crystalline functional chromium deposit on a substrate, including providing the electrodeposition bath including trivalent chromium, a source of divalent sulfur, a carboxylic acid, a source of nitrogen and being substantially free of hexavalent chromium; immersing a substrate in the bath; and applying an electrical current to electrodeposit the deposit on the substrate.
Selon l'invention, un dépôt de chrome fonctionnel cristallin déposé par voie galvanique est nanogranulaire sous sa forme déposée, et le dépôt peut être déterminé cristallin à la fois par TEM et XRD ou encore cristallin par TEM et amorphe par XRD. Dans divers modes de réalisation, le dépôt comprend un élément ou toute combinaison d'au moins deux éléments d'un alliage de chrome, de carbone, d'azote, d'oxygène et de soufre; une orientation {111} préférée; une aire en coupe transversale de grain cristallin moyen inférieure à environ 500 nm2; et un paramètre de réseau de 2,8895 +/- 0,0025 A. Cette invention concerne un procédé et un bain de dépôt par voie galvanique permettant de déposer par voie galvanique le dépôt de chrome fonctionnel cristallin nanogranulaire sur un substrat. Le procédé consiste à fournir un bain de dépôt par voie galvanique qui contient du chrome trivalent, une source de soufre divalent, un acide carboxylique, une source d'azote et qui est sensiblement dépourvu de chrome hexavalent, à immerger un substrat dans le bain; et à appliquer un courant électrique pour déposer par voie galvanique le dépôt sur le substrat.
Bishop Craig V.
Rousseau Agnes
Atotech Deutschland Gmbh
Ridout & Maybee Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1815758