C - Chemistry – Metallurgy – 25 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
25
D
C25D 3/06 (2006.01) C25D 3/10 (2006.01)
Patent
CA 2647571
A crystalline chromium deposit having a lattice parameter of 2.8895 +/- 0.0025 Å, and an article including the crystalline chromium deposit. An article including a crystalline chromium deposit, wherein the crystalline chromium deposit has a {111} preferred orientation. A process for electrodepositing a crystalline chromium deposit on a substrate, including providing an electroplating bath comprising trivalent chromium and a source of divalent sulfur, and substantially free of hexavalent chromium; immersing a substrate in the electroplating bath; and applying an electrical current to deposit a crystalline chromium deposit on the substrate, wherein the chromium deposit is crystalline as deposited.
L'invention porte sur un dépôt de chrome cristallin possédant un paramètre de réseau de 2,8895 +/- 0,0025 Å, et sur un article comprenant le dépôt de chrome cristallin. L'invention concerne un article comprenant un dépôt de chrome cristallin, lequel dépôt de chrome cristallin possède une orientation préférée {111}. L'invention se rapporte à un procédé d'électrodéposition d'un dépôt de chrome cristallin sur un substrat, qui consiste à former un bain d'électrodéposition comprenant du chrome trivalent et une source de soufre bivalent, et sensiblement dépourvu de chrome hexavalent; à immerger un substrat dans le bain d'électrodéposition; et à appliquer un courant électrique afin d'effectuer un dépôt de chrome cristallin sur le substrat, le dépôt de chrome étant cristallin tel que déposé.
Bishop Craig V.
Mathe Zoltan
Rousseau Agnes
Atotech Deutschland Gmbh
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1878753