C - Chemistry – Metallurgy – 08 – L
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
L
C08L 67/04 (2006.01) C08G 63/08 (2006.01) C08G 63/78 (2006.01) C08G 63/88 (2006.01) C08K 5/25 (2006.01) C08K 5/3472 (2006.01) C08K 5/521 (2006.01) C08K 5/527 (2006.01)
Patent
CA 2464635
Crystalline polyglycolic acid wherein a difference between the melting point Tm and the crystallization temperature Tc2 is not lower than 35°C, and a difference between the crystallization temperature Tc1 and the glass transition temperature Tg is not lower than 40°C. A production process of polyglycolic acid modified in crystallinity, comprising applying heat history to crystalline polyglycolic acid at a temperature of not lower than (the melting point Tm of the crystalline polyglycolic acid + 38°C). A polyglycolic acid composition comprising crystalline polyglycolic acid and a heat stabilizer, wherein a difference (T2 - T1) between the temperature T2 at 3%-weight loss on heating of the polyglycolic acid composition and the temperature T1 at 3%-weight loss on heating of the crystalline polyglycolic acid is not lower than 5°C.
Acide polyglycolique cristallin présentant une différence entre la température de fusion (Tm) et la température de cristallisation (TC2) de 35 ·C ou plus et une différence entre la température de cristallisation (TC1) et une température de transition à l'état vitreux (Tg) de 40 ·C ou plus; procédé de fabrication d'acide polyglycolique présentant des propriétés de cristal modifiées qui consiste à assurer à un acide polyglycolique cristallin modifié un historique de réchauffement à Tm de 38 ·C ou plus; et composition à base d'acide polyglycolique cristallin, composition à base d'acide polyglycolique comprenant un acide polyglycolique cristallin et un stabilisateur thermique présentant une différence (T2-T1) supérieure à 5 ·C ou plus entre la température (T2) de la composition pour 3 % de perte de poids au réchauffement et une température (T1) de l'acide polyglycolique cristallin pour 3 % de perte de poids au réchauffement.
Itoh Daisuke
Miura Hiromitsu
Nakajima Junji
Ono Toshihiko
Yamane Kazuyuki
Kirby Eades Gale Baker
Kureha Chemical Industry Company Limited
Kureha Corporation
LandOfFree
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