C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 211/26 (2006.01) A61K 31/445 (2006.01) A61K 31/495 (2006.01) A61K 31/55 (2006.01) C07D 211/34 (2006.01) C07D 211/58 (2006.01) C07D 213/36 (2006.01) C07D 213/38 (2006.01) C07D 213/70 (2006.01) C07D 243/08 (2006.01) C07D 295/185 (2006.01) C07D 295/192 (2006.01) C07D 401/06 (2006.01) C07D 401/14 (2006.01)
Patent
CA 2320971
Compounds represented by general formula (1) and drugs containing the same, wherein A represents an optionally substituted aromatic compound, etc.; B represents nitrogen or CH; X represents optionally substituted lower alkylene, etc.; Y represents a single bond; Z represents an optionally substituted divalent residue of benzene, etc.; and m and n are each an integer of 1 to 4. Because of having an excellent IgE antibody production inhibitory effect, these compounds are useful as antiallergic agents, etc.
L'invention concerne des composés représentés par la formule générale (1) et des médicaments contenant ceux-ci. Dans la formule, A est un composé aromatique éventuellement substitué, etc.; B est azote ou CH; X est un alkylène inférieur éventuellement substitué, etc.; Y est une liaison simple; Z est un résidu de benzène divalent éventuellement substitué, etc.; et m et n sont chacun un nombre entier compris entre 1 et 4. En raison de leur excellent effet inhibiteur de production d'anticorps IgE, ces composés sont utiles comme agents antiallergiques, etc.
Hattori Yukio
Ishiwata Hiroyuki
Kabeya Mototsugu
Nagoya Takao
Nakao Hiroshi
Gowling Lafleur Henderson Llp
Kowa Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1899697