C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 471/14 (2006.01) A61K 31/495 (2006.01)
Patent
CA 2226761
A compound of formula (I) and solvates thereof, in which R0 represents hydrogen, halogen or C1-6alkyl; R1 represents hydrogen or C1-6alkyl; R2 represents the bicyclic ring (1) which may be optionally substituted by one or more groups selected from halogen and C1-3alkyl; and R3 represents hydrogen or C1-3alkyl. A compound of the present invention is a potent and selective inhibitor of cGMP specific PDE having a utility in a variety of therapeutic areas where such inhibition is beneficial.
Composé de formule (I) et ses solvates, dans laquelle R?0¿ représente hydrogène, halogène ou alkyle en C¿1-6?; R?1¿ représente hydrogène ou alkyle en C¿1-6?; R?2¿ représente le noyau bicyclique (1) pouvant être éventuellement substitué par un ou plusieurs groupes choisis entre halogène et alkyle en C¿1-3?; et R?3¿ représente hydrogène ou alkyle en C¿1-3?. Un composé de la présente invention constitue un inhibiteur puissant et sélectif de PDE spécifique de GMP cyclique présentant une utilité dans divers domaines thérapeutiques dans lesquels une telle inhibition est avantageuse.
Daugan Alain Claude-Marie
Gellibert Francoise
Gowling Lafleur Henderson Llp
Icos Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1618014