C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
260/323, 260/306
C07D 207/08 (2006.01) C07D 317/54 (2006.01)
Patent
CA 1025456
P R E C I S L'invention se rapporte à des nouveaux dérivés de la cyclopropylphénylpyrrolidine de formule générale: Image dans laquelle: - R, R' pris séparément représentent chacun un atome d'hydro- gène ou d'halogène. un radical alkyle inférieur, alkoxy inférieur. trihalogénométhyle, ou un groupe hydroxyle et peuvent être en position méta ou para; - R, R' pris ensemble peuvent représenter un radical méthylène- dioxy; - R" représente un atome d'hydrogène ou un radical méthyle; - R"' représente un atome d hydrogène, un radical alkyle inférieur. benzyle, propargyle ou hydroxyéthyle, le terme "alkyle inférieur" désignant un radical de 1 à 4 atomes de carbone, ainsi que les sels non toxiques pharmaceutiquement acceptables de ces dérivés. Ces composés sont utiles comme agents anorexigènes et analeptiques.
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Profile ID: LFCA-PAI-O-935337