C - Chemistry – Metallurgy – 02 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
02
F
C02F 1/42 (2006.01) C02F 1/44 (2006.01) C02F 9/00 (2006.01)
Patent
CA 2165671
[Field of the Invention] To produce deionized or high purity water having a reduced boron concentration suitable for manufacture of semiconductors and the like. [Means for Solving the Problems] This apparatus comprises a primary deionized water treatment unit equipped with a membrane separation device and so forth for obtaining deionized water from pretreated water produced by a pretreatment unit (1), a tank (9) for storing this primary deionized water, and a secondary deionized water production section located downstream of the tank (9) and equipped with membrane separation means, ion exchange means and so forth for obtaining high purity water from the primary deionized water. A boron selective ion exchange resin is provided upstream of a strongly acidic cation exchange resin in a K (cation) column of two bed ion exchange deionization system (3) in the primary deionized water production system. Due to the presence of this boron selective ion exchange resin, the boron concentration of the effluent from the two bed ion exchange deionization system can be stably suppressed over a long period of time.
Eau pure ou ultrapure présentant une concentration limitée en bore et pouvant s'utiliser efficacement pour la fabrication d'un dispositif à semi-conducteurs. Le dispositif comprend un système primaire de traitement d'eau pure pourvu d'un moyen de traitement à membrane et conçu pour obtenir de l'eau pure à partir d'eau traitée dans un ensemble de traitement préalable (1), un réservoir (9) servant à emmagasiner cette eau pure primaire, ainsi qu'un système secondaire de traitement d'eau pure pourvu d'un moyen échangeur d'ions et d'un moyen de traitement à membrane et conçu pour obtenir de l'eau ultrapure à partir de l'eau pure primaire alimentée par l'intermédiaire du réservoir (9). Une résine échangeuse d'ions présentant une sélectivité pour le bore, se trouve dans une colonne K d'un ensemble échangeur d'ions de type deux lits, trois colonnes dans le système primaire de traitement d'eau pure, de telle manière que ladite résine est déposée du côté amont d'une résine échangeuse d'ions à acide fort. Cette résine échangeuse d'ions présentant une sélectivité pour le bore permet de limiter la concentration en bore dans l'eau traitée, de façon stable et pendant une durée prolongée.
Kaneko Sakae
Shindo Ikuo
Tanabe Madoka
Gowling Lafleur Henderson Llp
Organo Corporation
LandOfFree
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