Deposition of substances on a surface

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B - Operations, Transporting

05

D

B05D 3/04 (2006.01) B05D 3/06 (2006.01) B05D 3/10 (2006.01) B05D 5/12 (2006.01) G03C 5/00 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) G03F 7/16 (2006.01) H05K 3/10 (2006.01) H05K 3/12 (2006.01)

Patent

CA 2302252

Methods and apparatus (10) are provided in which a coating (20) is deposited onto a substrate (30) by a process which includes the following steps: depositing a precursor onto the substrate in a desired pattern; depositing an appropriate ligand onto the substrate; and applying sufficient energy to transfer electrons from the ligand to the precursor, thereby decomposing the precursor to form a precipitate. In one aspect of preferred embodiments, the precursor comprises a metallic salt, and the precipitate comprises a metal. Especially preferred salts are carboxylates, halides, nitrates, and pseudo halides. In another aspect of preferred embodiments, the ligand comprises an amine, an amide, a phosphine, a sulfide, or any other ligand containing nitrogen, phosphorous, sulphur or other donor atoms. In another aspect of preferred embodiments, the deposited material has a high purity of at least 80 % by weight. A desired pattern is produced without removing from the substrate a substantial quantity of either the precursor or the deposited coating.

L'invention se rapporte à des procédés et à un appareil (10) permettant de déposer un revêtement (20) sur un substrat (30). Un tel procédé comporte les étapes suivantes: dépôt d'un précurseur sur le substrat suivant un motif souhaité; dépôt d'un ligand approprié sur le substrat; et application d'une énergie suffisante pour transférer des électrons du ligand vers le précurseur, ce qui entraîne la décomposition du précurseur et donc la formation d'un précipité. Selon l'une des réalisations préférées, le précurseur comprend un sel métallique, et le précipité comporte un métal. Les sels les plus préférés sont les carboxylates, les halogénures, les nitrates et les pseudo-halogénures. Dans les réalisations préférées, le ligand comprend une amine, un amide, une phosphine, un sulfure ou tout autre ligand contenant de l'azote, du phosphore, du soufre ou d'autres atomes donneurs. Selon un autre aspect des réalisations préférées, au moins 80 % en poids de la matière déposée est d'une grande pureté. On forme un motif souhaité sans retirer du substrat une quantité importante du précurseur ou du revêtement déposé.

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