C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 8/16 (2006.01) C23C 4/18 (2006.01) C23C 16/02 (2006.01) C23C 16/24 (2006.01) C23C 16/40 (2006.01) C23C 16/503 (2006.01)
Patent
CA 2098436
ABR?G? L'invention concerne un procédé pour former un dépôt contenant du silicium à la surface d'un substrat métallique selon lequel on met en oeuvre, concomitamment ou successivement, les étapes suivantes: la soumission de ladite surface à une décharge électrique à barrière diélectrique, (2) l'exposition de ladite surface à une atmosphère comportant un composé de silicium à l'état gazeux, les étapes (1) et (2) étant effectuées à une pression supérieure à 10.000 Pa. L'invention concerne également un procédé de traitement anti-corrosion d'un substrat métallique, ainsi qu'un support polymère métallisé.
Bouard Pascal
Slootman Frank
L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Proced Es Geo
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1511600