Dielectric mirror retroreflective appliques having excellent...

G - Physics – 02 – B

Patent

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G02B 5/128 (2006.01)

Patent

CA 2403347

Exposed lens retroreflective appliques incorporate a monolayer of beads and a dielectric mirror proximate the beads. A pigmented or otherwise colored bead bond layer in which the beads are partially embedded is visible through the dielectric mirror, giving the article a highly colored daytimeappearance. The appliques exhibit an initial reflectivity. By appropriate materials selection, the appliques can be made to retain at least 75%, and in most instances at least 90%, of the initial reflectivity if subjected to fifty home laundering cycles. In one case the dielectric mirror includes zinc sulfide as a relatively high refractive index material and calcium fluoride as a relatively low refractive index material. In another case the dielectric mirror includes zinc sulfide as the relatively high refractive index material and silicon dioxide as the relatively low refractive index material.

Des appliqués rétroréfléchissants à lentille exposée comprennent une monocouche de billes et un miroir diélectrique situé juste à côté des billes. Une couche de liaison de billes pigmentée ou colorée d'une autre manière dans laquelle sont partiellement noyées les billes est visible à travers le miroir diélectrique, ce qui confère à l'article un aspect fortement coloré tel qu'à la lumière du jour. Les appliqués ont une réflectivité initiale. Le fait de sélectionner des matières appropriées permet de produire des appliqués qui conservent au moins 75 % et dans la plupart des cas, au moins 90 % de la réflectivité initiale suite à cinquante cycles de lavage à la maison. Dans un premier cas, le miroir diélectrique comprend du sulfure de zinc en tant que matière à indice de réfraction relativement élevé et du fluorure de calcium en tant que matière à indice de réfraction relativement faible. Dans un autre cas, le miroir diélectrique comprend du sulfure de zinc en tant que matière à indice de réfraction relativement élevé et du dioxyde de silicium en tant que matière à indice de réfraction relativement faible.

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