Distributed control system architecture and method for a...

B - Operations – Transporting – 65 – G

Patent

Rate now

  [ 0.00 ] – not rated yet Voters 0   Comments 0

Details

B65G 43/00 (2006.01) B65G 37/00 (2006.01) B65G 43/10 (2006.01) B65G 49/07 (2006.01) C23C 16/00 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) C23C 16/52 (2006.01) C23C 16/54 (2006.01) G05B 15/00 (2006.01) G06F 7/00 (2006.01) H01L 21/00 (2006.01) H01L 21/205 (2006.01) H01L 21/68 (2006.01)

Patent

CA 2354624

There is provided a chemical vapor deposition apparatus for depositing substantially uniform films or layers onto a substrate or wafer. The apparatus includes a chamber with an injector assembly including spaced linear injectors and a chemical vapor delivery system for delivering chemicals to said injectors to form spaced adjacent deposition regions. Translation means reciprocally move said substrate or wafer a predetermiend distance in a direction perpendicular to the long axis of the linear injectors while maintaing the substrate surface parallel and adjacent to the chemical delivery surface of the linear injector assembly whereby the deposition regions of adjacent injectors merge to form a film or layer of substantially uniform thickness.

La présente invention concerne un appareil de dépôt de vapeur chimique utilisé pour appliquer des films ou des couches de façon sensiblement uniforme sur un substrat ou une tranche. Cet appareil comprend une enceinte contenant un ensemble injecteur composé d'injecteurs linéaires espacés, et un système de distribution de vapeur chimique conçu pour acheminer des produits chimiques jusqu'aux injecteurs précités, afin de former des régions de dépôt adjacentes espacées. Des moyens de translation déplacent réciproquement ledit substrat ou tranche sur une distance prédéterminée, dans un sens perpendiculaire à l'axe longitudinal des injecteurs linéaires, tout en maintenant la surface du substrat parallèle et adjacente à la surface d'acheminement de produits chimiques de l'ensemble d'injecteurs linéaires; les régions de dépôt des injecteurs adjacents se fusionnant pour former un film ou une couche d'épaisseur sensiblement uniforme.

LandOfFree

Say what you really think

Search LandOfFree.com for Canadian inventors and patents. Rate them and share your experience with other people.

Rating

Distributed control system architecture and method for a... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.

If you have personal experience with Distributed control system architecture and method for a..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Distributed control system architecture and method for a... will most certainly appreciate the feedback.

Rate now

     

Profile ID: LFCA-PAI-O-2071825

  Search
All data on this website is collected from public sources. Our data reflects the most accurate information available at the time of publication.