Distributor bottom

Details Distributor bottom Distributor bottom

B - Operations, Transporting

01

J

B01J 8/44 (2006.01)

Patent

CA 2634862

The invention relates to a distributor bottom (1), particularly a nozzle-type distributor bottom, for steadily introducing process gas, especially process gas loaded with solid particles, into a process chamber (3), optionally to create a fluidized bed, said process chamber (3) being disposed above the distributor bottom and being formed by walls (4) of a reactor used for metallurgically, particularly thermally, treating feedstock. The inventive distributor bottom is provided with a plurality of holes. Holes are arranged near the walls to prevent substances from attaching to the reactor walls. Special arrangements relate to nozzles and ducts.

L'invention concerne un fond de distribution (1), en particulier un fond de distribution du type à tuyères, en vue de l'introduction en permanence, de gaz de traitement, notamment, de gaz de traitement chargé de particules solides, dans une chambre de traitement (3), éventuellement en vue de former un lit fluidisé, ladite chambre de traitement (3) étant disposée au-dessus du fond de distribution et étant formée par des parois (4) d'un réacteur utilisé pour le traitement métallurgique, en particulier thermique, d'une charge d'alimentation. Le fond de distribution selon l'invention présente une pluralité d'ouvertures. Grâce à une disposition des ouvertures au voisinage des parois dans le fond de distribution, des incrustations sur les parois du réacteur peuvent être évitées. Des agencements spéciaux sont prévus en ce qui concerne les tuyères et les tubes de guidage.

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