C - Chemistry – Metallurgy – 07 – H
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
H
C07H 21/00 (2006.01) A61K 31/70 (2006.01) A61K 41/00 (2006.01) A61K 47/48 (2006.01) C07H 23/00 (2006.01) C12N 9/16 (2006.01) C12N 9/96 (2006.01) C12N 13/00 (2006.01) C12N 15/11 (2006.01)
Patent
CA 2200571
Methods of cleavage of a polymer of deoxyribonucleic acid using photosensitive texaphyrins are disclosed. A preferred method of use is the site-specific cleavage of a polymer of deoxyribonucleic acid, and a preferred texaphyrin is a derivatized texaphyrin having binding specificity, in particular, a texaphyrin covalently coupled to a site-directing molecule, preferably an oligonucleotide.
On décrit des procédés, qui permettent de couper un polymère d'acide désoxyribonucléique à l'aide de texaphyrines photosensibles. Un procédé préféré concernant leur utilisation consiste à couper en un site précis un polymère d'ADN, et une texaphyrine préférée est obtenue par dérivation et présente une spécificité de liaison. Il s'agit notamment d'une texaphyrine couplée de façon convalente à une molécule d'orientation vers un site, un oligonucléotide de préférence.
Hemmi Gregory W.
Iverson Brent L.
Magda Darren
Mody Tarak D.
Sansom Petra I.
Bereskin & Parr
Pharmacyclics Inc.
The Board Of Regents Of The University Of Texas System
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1517336