C - Chemistry – Metallurgy – 25 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
25
D
C25D 3/48 (2006.01) C25D 3/02 (2006.01) C25D 17/10 (2006.01)
Patent
CA 2759813
A mercury vapour sensor in which the sensor surface is a gold substrate, and gold nanostructures with controlled crystallographic facets are strongly adhered to the substrate. A substantial increase in response magnitude and stability of a quartz crystal microbalance (QCM) based mercury vapour sensor is achieved using this sensor surface. The method of forming gold nanostructures on a gold substrate includes the steps of electrodepositing gold onto a gold working electrode from a solution of hydrogen or alkali metal tetrahaloaureate (III) and an additive such as lead acetate at an electro-deposition temperature between 20 and 40 °C and a deposition time of at least 15 seconds. The growth is controlled by the composition of the deposition solution, the temperature and the current density. The deposition rates may be varied as will the deposition times which are preferably about 150 seconds but may be as long as 15 minutes. The preferred deposition solution contains 2.718g/l of hydrogen tetrachloroaurate(lll) hydrate with 0.1 to 0.5g/l of lead acetate.
L'invention concerne un détecteur de vapeur de mercure dont la surface est un substrat en or, et des nanostructures d'or à facettes cristallographiques régulées qui adhèrent fermement au substrat. Un accroissement sensible en amplitude de réponse et en stabilité d'une microbalance à cristal de quartz (QCM) sur la base d'un détecteur de vapeur de mercure est obtenu au moyen de cette surface de détecteur. Le procédé de formation de nanostructures d'or sur un substrat en or consiste notamment à électrodéposer de l'or sur une électrode de travail en or à partir d'une solution d'hydrogène ou de tétrahaloaurate de métal alcalin (III) et un additif tel que l'acétate de plomb à une température d'électrodéposition comprise entre 20 et 40°C et un temps de déposition d'au moins 15 secondes. La croissance est régulée par la composition de la solution de déposition, la température et la densité de courant. Les taux de déposition peuvent varier comme les temps de déposition qui sont de préférence d'environ 150 secondes, mais qui peuvent durer aussi longtemps que 15 minutes. La solution de déposition préférée contient 2,718g/l d'hydrate de tétrachloroaurate d'hydrogène (III) avec 0,1 à 0,5g/l d'acétate de plomb.
Bhargava Suresh
Ippolito Samuel James
Sabri Ylias Mohammad
Osler Hoskin & Harcourt Llp
Rmit University
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1673006