G - Physics – 02 – F
Patent
G - Physics
02
F
G02F 1/15 (2006.01)
Patent
CA 2549779
An electromagnetic radiation assembly is described and which includes, a supporting substrate having a region through which visibly discernable electromagnetic radiation forming a signal may pass; first and second electromagnetic radiation emitters are provided and which are positioned adjacent to one of the surfaces defined by the substrate, and which, when energized, emit electromagnetic radiation; and a single reflector is disposed in eccentric reflecting relation relative to the first and second electromagnetic radiation emitters, and wherein emitted electromagnetic radiation is reflected by the single reflector and passes through the supporting substrate region which passes electromagnetic radiation, in different directions.
Ensemble de production d'un rayonnement électromagnétique, qui comporte un substrat de support pourvu d'une région à travers laquelle peut passer un rayonnement électromagnétique visiblement discernable formant un signal, des premier et second émetteurs de rayonnement électromagnétique placés adjacents à l'une des surfaces définies par le substrat et émettant un rayonnement électromagnétique lorsqu'ils sont alimentés en courant et un seul réflecteur placé dans une relation de réflexion excentrique par rapport aux premier et second émetteurs de rayonnement électromagnétique. Le rayonnement électromagnétique émis est réfléchi par le réflecteur unique et passe à travers la région du substrat de support qui laisse passer le rayonnement électromagnétique, dans différentes directions.
Mathieu Daniel J.
Todd Daniel R.
Goudreau Gage Dubuc
K.w. Muth Company Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1789016