G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 6/25 (2006.01) B24B 37/04 (2006.01) B24B 41/06 (2006.01)
Patent
CA 2243125
An end-face polishing and cleaning apparatus having one set of a polishing machine for polishing end-faces of optical fibers and ferrules under a state that the ferrules fixed to ends of the plural fibers are held by a jig plate and a cleaning machine for cleaning the ferrules polished by the polishing machine, and comprising a movable mounting means having a holding means for holding at least one of the jig plate under a nearly horizontal state, an elevation means for holding the holding means to be vertically movable, and a horizontally moving means for supporting the holding means to be horizontally movable, wherein the jig plate is automatically, movably mounted between the polishing machine and the cleaning machine, thereby polishing and cleaning the end-faces of the ferrules.
La présente invention a pour objet une installation pour le polissage et le nettoyage des extrémités de fibres optiques et de ferrules, comportant une polisseuse assurant le polissage des extrémités de fibres optiques et de ferrules alors que les ferrules sont fixées aux extrémités des faisceaux de fibres optiques maintenues dans un gabarit de montage et machine pour effectuer le nettoyage des ferrules après polissage à la polisseuse; l'installation en question comporte un dispositif de montage mobile faisant appel à un mécanisme de retenue pour retenir au moins un gabarit de montage dans une position voisine de l'horizontale, un dispositif de levage permettant de déplacer verticalement le mécanisme de retenue en question, et un dispositif de translation horizontale assurant le support et permettant les mouvements de translation du mécanisme de retenue, le gabarit de montage étant automatiquement déplacé entre la machine de polissage et la machine de nettoyage et ainsi permettre le polissage et le nettoyage des extrémités des ferrules.
Hirayama Hisayuki
Kawasaki Muneo
Minami Kouji
Taira Junji
Tokita Hiroyuki
Borden Ladner Gervais Llp
Seiko Instruments Inc.
LandOfFree
End-face polishing and cleaning apparatus does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with End-face polishing and cleaning apparatus, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and End-face polishing and cleaning apparatus will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1368728