C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/34 (2006.01) C03C 17/22 (2006.01) C23C 16/42 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01)
Patent
CA 2054805
Une méthode de préparation de couches de nitrure de silicium à propriétés améliorées est proposée. La couche se caractérise par une concentration en atomes d'hydrogène limitée, de plus son indice est élevé, sa vitesse d'attaque par une solution fluorhydrique reste lente, elle empêche la diffusion des alcalins et de l'oxygène. Ses propriétés diélectriques (gap optique) sont bonnes. Le procédé de préparation utilise le plasma-CVD avec de l'ammoniac. L'invention concerne de plus l'application aux écrans plats, aux transistors TFT et aux vitrages fonctionnels.
Bruyere Jean-Claude
Jousse Didier
Reynes Brigitte
Vilato Pablo
Bruyere Jean-Claude
Goudreau Gage Dubuc
Jousse Didier
Reynes Brigitte
Saint-Gobain Vitrage
LandOfFree
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