C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 417/06 (2006.01) A61K 31/425 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) C07D 405/06 (2006.01) C07D 413/06 (2006.01) C07D 493/04 (2006.01)
Patent
CA 2360952
The invention relates to the novel epothilon derivatives of general formula (I) wherein R4 is hydrogen, C1-C10 alkyl, aryl, C7-C20 aralkyl, R5 is hydrogen, C1-C10 alkyl, aryl, C7-C20 aralkyl, R6, R7 are each a hydrogen atom, or together an additional bond or an oxygen atom, R8 is a methyl group or hydrogen, and simultaneously R1a and R1b together represent a trimethylene group and X is a 2-pyridyl, 2-methyl-4-thiazolyl or 2-methyl-4-oxazolyl residue or simultaneously R1a and R1b together represent a trimethylene group, R2 is a methyl, ethyl or propyl group and X is a 2-pyridyl, 2-methyl-4- thiazolyl or 2-methyl-4-oxazolyl residue or simultaneously R1a and R1b each represents a methyl group, R2 is a methyl, ethyl or propyl residue and X is a 2-pyridyl, 2-methyl-4-thiazolyl or 2-methyl-4-oxazolyl residue, wherein the nitrogen and/or sulfur atom in X can be present in oxidized form and, if R2 and R8 each means a methyl residue, X can only be a 2-pyridyl residue which is optionally oxidized at the nitrogen atom, including all possible stereoisomers and their mixtures. The novel compounds are useful for producing medicaments.
La présente invention concerne de nouveaux dérivés d'épothilone correspondant à la formule générale (I), dans laquelle: R?4¿ représente hydrogène, alkyle C¿1?-C¿10?, aryle, aralkyle C¿7?-C¿20?; R?5¿ représente hydrogène, alkyle C¿1?-C¿10?, aryle, aralkyle C¿7?-C¿20?; R?6¿, R?7¿ représentent chacun un atome d'hydrogène, et ensemble une liaison complémentaire ou un atome d'oxygène; R?8¿ représente un groupe méthyle ou hydrogène; R?1a¿ et R?1b¿ représentent ensemble un groupe triméthylène et X représente un reste 2-pyridyle, 2-méthyl-4-thiazolyle ou 2-méthyl-4-oxazolyle; ou bien R?1a¿ et R?1b¿ représentent ensemble un groupe triméthylène, R?2¿ représente un groupe méthyle, éthyle ou propyle et X représente un reste 2-pyridyle, 2-méthyl-4-thiazolyle ou 2-méthyl-4-oxazolyle; ou bien R?1a¿ et R?1b¿ représentent chacun un groupe méthyle, R?2¿ représente un reste méthyle, éthyle ou propyle et X représente un reste 2-pyridyle, 2-méthyl-4-thiazolyle ou 2-méthyl-4-oxazolyle, l'atome d'azote et/ou de soufre dans X pouvant être présent sous forme oxydée et, lorsque R?2¿ et R?8¿ représentent chacun un reste méthyle, X ne pouvant être qu'un reste 2-pyridyle éventuellement oxydé au niveau de l'atome d'azote. L'invention concerne également tous les stéréoisomères possibles de ces dérivés et leurs mélanges. Ces nouveaux composés peuvent être utilisés pour la production de médicaments.
Buchmann Bernd
Klar Ulrich
Schirner Michael
Schwede Wolfgang
Skuballa Werner
Marks & Clerk
Schering Aktiengesellschaft
LandOfFree
Epothilon derivatives, method for the production and the use... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Epothilon derivatives, method for the production and the use..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Epothilon derivatives, method for the production and the use... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1857850