C - Chemistry – Metallurgy – 07 – H
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
H
C07H 17/08 (2006.01) A61K 31/70 (2006.01) C07H 17/00 (2006.01)
Patent
CA 2102454
PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention a pour objet les composés de formule (I) : (see formula I) dans lesquels R représente un radical (see formula II) , dans lequel m et n représentent un nombre entier de 0 à 6, et ou bien A et B identiques ou différents représentent un atome d'hydrogène ou un atome d'halogène ou un radical alkyle, la géométrie de la double liaison étant E ou Z ou un mélange E + Z, ou bien A et B forment une troisième liaison avec les atomes de carbone auxquels ils sont liés et Ar représente soit un radical aryle ou hétéoaryle éventuellement substitué et Z représente un atome d'hydrogène ou le reste d'un acide carboxylique, ainsi que les sels avec les acides. Les composés de formule (I) présentent des propriétés antibiotiques. L'invention a également pour objet l'usage desdits composés pour la préparation de médicaments, des compositions pharmaceutiques renfermant un ou plusieurs desdits composés et un procédé pour la préparation desdits composés.
Agouridas Constantin
Bonnefoy Alain
Chantot Jean-Francois
Denis Alexis
Le Martret Odile
Aventis Pharma S.a.
Robic
Roussel-Uclaf
LandOfFree
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