H - Electricity – 01 – L
Patent
H - Electricity
01
L
204/96.05
H01L 21/306 (2006.01) C04B 41/53 (2006.01) C04B 41/91 (2006.01)
Patent
CA 1283885
PRECIS DE LA DIVULGATION: Procédé d'attaque d'une surface d'une pièce en phosphure d'indium qui consiste à introduire la pièce dans une enceinte d'attaque munie d'électrodes, à introduire dans cette enceinte un mélange d'attaque gazeux , et à appliquer entre ces électrodes une tension électrique alternative à haute fréquence de manière à former un plasma à partir dudit mélange d'attaque. Des moyens sont prévus pour soumettre la pièce à l'action d'éléments de ce plasma. Le mélange d'attaque gazeux contient de l'ammoniac NH3 et un gaz diluant, et les moyens pour soumettre la pièce à l'action d'éléments de ce plasma sont au moins essentiellement constitués par le fait qu'on dispose lesdites électrodes de manière qu'elles forment ledit plasma au contact de la surface à attaquer. L'invention s'applique notamment à la fabrication de lasers semiconducteurs à émission infrarouge pour télécommunications.
563120
Carriere Claude
Lavolee Thierry
Renard Jean
Alcatel Cit
Carriere Claude
Lavolee Thierry
Renard Jean
Robic Robic & Associes/associates
LandOfFree
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