Fabrication of waveguides and bragg gratings with...

G - Physics – 02 – B

Patent

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Details

G02B 6/124 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01) G02B 6/13 (2006.01)

Patent

CA 2502121

A method of simultaneously defining a waveguide and grating in a sample of photosensitive material comprises providing a sample of material (24) having a region which is photosensitive to light of a specific wavelength, generating a spot of light (22) at the specific wavelength, the spot having a periodic intensity pattern of high and low intensity fringes, and a width which is related to the width of the channel, positioning the spot within the photosensitive region and causing relative movement between the sample and the light spot along the desired path of the waveguide/grating define a channel of altered refractive index by exposing parts of the photosensitive region to the light spot. Modulation of the light spot to produce multiple exposures produces a grating, while continuous exposure results in a uniform waveguide. These structures can be written in straight lines or around curves, and can be accurately overwritten, so that complex optical devices can be produced in a single fabrication step.

L'invention concerne un procédé permettant de définir simultanément un guide d'ondes et un réseau dans un échantillon d'un matériau photosensible, consistant à fournir un échantillon de matériau (24) présentant une zone qui est photosensible à la lumière d'une longueur d'onde spécifique, à générer une tache de lumière (22) à la longueur d'onde spécifique, cette tache présentant un motif d'intensité périodique de franges d'intensité faible et élevée, et une largeur qui est liée à la largeur du canal, à positionner la tache dans la zone photosensible et à provoquer un mouvement relatif entre l'échantillon et la tache de lumière le long du trajet désiré du guide d'ondes/réseau afin de définir un canal d'indice de réfraction modifié par exposition des parties de la zone photosensible à la tache de lumière. La modulation de la tache de lumière afin d'entraîner plusieurs expositions permet de produire un réseau, alors qu'une exposition continue résulte en un guide d'ondes uniforme. Ces structures peuvent être écrites dans des lignes droites ou autour de courbes, et peuvent être précisément écrasées, si bien que des dispositifs optiques complexes peuvent être produits au cours d'une seule étape de fabrication.

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