Field emission devices

H - Electricity – 01 – J

Patent

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Details

H01J 9/02 (2006.01)

Patent

CA 2307023

A field electron emission cathode is manufactured by depositing on an insulating substrate (300), by low resolution means, a sequence of a first conducting layer (301), a field emitting layer (302) and a second conducting layer (303) to form at least one cathode electrode. There is then deposited on the cathode electrode by low resolution means, a sequence of an insulating layer (304) and a third conducting layer (305), to form at least one gate electrode. The structure thus formed is then coated with a photoresist layer (306). The photoresist layer (306) is then exposed by high resolution means to form at least one group of emitting cells, the or each such group being located in an area of overlap between a cathode electrode and gate electrode. To complete the cells, the conducting and insulating layers (305, 304, 303) are etched sequentially to expose the field emitting layer (302) in the cells, and remaining areas of the photoresist layer (306) are removed. Thus, field emitting materials and devices can be manufactured using relatively low cost techniques.

L'invention concerne un procédé de fabrication d'une cathode à émission d'électrons par effet de champ, ce procédé consistant à déposer, sur un substrat isolant (30) et à l'aide d'organes à faible définition, une séquence d'une première couche conductrice (301), une couche d'émission par effet de champ (302), et une deuxième couche conductrice (303), de manière à former au moins une électrode cathodique. On dépose ensuite sur cette électrode cathodique, à l'aide d'organes à faible définition, une séquence d'une couche isolante (304) et une troisième couche conductrice (305), de manière à former au moins une gâchette. On obtient ainsi une structure que l'on recouvre d'une couche de photorésist (306). Cette couche de photorésist (306) est ensuite exposée au moyen d'organes à haute définition, de manière à former au moins un groupe de cellules émissives, ce(s) groupe(s) étant placé(s) dans la zone de chevauchement séparant une électrode cathodique d'une gâchette. Afin de fermer les cellules, les couches conductrices et isolantes (305, 304, 303) sont gravées de manière séquentielle, exposant ainsi la couche d'émission par effet de champ (302) dans les cellules, les zones restantes de la couche de photorésist (306) étant ensuite retirées. Les corps et dispositifs d'émission par effet de champ de cette invention peuvent donc être fabriqués selon des techniques relativement peu coûteuses.

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