C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/44 (2006.01) C23C 16/448 (2006.01) C23C 16/458 (2006.01) C23C 16/52 (2006.01) C23C 16/54 (2006.01) H01L 21/00 (2006.01)
Patent
CA 2328295
An apparatus for chemical vapor deposition includes a dispenser for dispensing a precursor to a vaporizer positioned within a vaporization chamber. A delivery conduit joins the vaporization with a process chamber. A flow meter is positioned within the delivery conduit for measuring the flow of precursor through the delivery conduit. A flow controller is likewise positioned within the delivery conduit for controlling the flow of precursor in response to the measured flow rate.
L'invention concerne un appareil pour dépôt chimique en phase vapeur, qui inclut un distributeur pour alimenter un précurseur dans un vaporisateur placé à l'intérieur d'un compartiment de vaporisation. Un conduit d'alimentation relie le compartiment de vaporisation à un compartiment de traitement. Un délbitmètre est placé à l'intérieur du conduit d'alimentation pour mesurer le débit du précurseur s'écoulant à travers le conduit d'alimentation. Un régulateur de débit est également placé à l'intérieur du conduit d'alimentation pour réguler le débit du précurseur en fonction du taux d'écoulement mesuré.
Loan James F.
Salerno Jack P.
Borden Ladner Gervais Llp
Cvd Systems Inc.
LandOfFree
Film deposition system does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Film deposition system, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Film deposition system will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1411315