G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 5/28 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) G01B 11/06 (2006.01)
Patent
CA 2470959
An optical member used in a practical wavelength region in an infrared region has a substrate (11), and an optical thin film consisting of a plurality of layers film-formed on the substrate (11). A film forming device comprises an optical monitor (4) for measuring spectral characteristics in a specified wavelength region in a visible region, an optical monitor (5) for measuring the spectral characteristics in a specified wavelength region in an infrared region, and a practical wavelength region optical monitor for measuring the spectral characteristics in the above practical wavelength region. The film thickness of each film-formed layer is determined based on spectral characteristics measured by either of the monitors (4, 5), and the film thickness setting value of a non-film-formed layer is adjusted based on the film thickness. Spectral characteristics measured by the practical wavelength region optical monitor during and after the film-forming of an optical thin film are reflected in the film-forming of the next optical thin film on the next substrate (11).
L'invention concerne un élément optique utilisé dans une région de longueur d'onde pratique dans une région infrarouge, cet élément comportant un substrat (11) et un film mince optique constitué d'une pluralité de couches disposées sous forme de film sur le substrat (11). L'invention concerne en outre un dispositif de formation de film comprenant un moniteur optique (4) pour mesurer des caractéristiques spectrales dans une région de longueur d'onde spécifiée dans une région visible, un moniteur optique (5) pour mesurer les caractéristiques spectrales dans une région de longueur d'onde spécifiée dans une région infrarouge, ainsi qu'un moniteur optique de région de longueur d'onde pratique pour mesurer les caractéristiques spectrales dans cette région. L'épaisseur de film de chaque couche sous forme de film est déterminée d'après les caractéristiques spectrales mesurées par l'un ou l'autre des moniteurs (4, 5) et la valeur de réglage de l'épaisseur de film d'une couche qui ne se présente pas sous forme de film est définie d'après cette épaisseur de film. Les caractéristiques spectrales mesurées par le moniteur optique de région de longueur d'onde pratique pendant et après la formation d'un film mince optique sont reproduites lors de la formation du film mince optique suivant sur le substrat (11) suivant.
Nikon Corporation
Ridout & Maybee Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1809248