Fluid treatment system

C - Chemistry – Metallurgy – 02 – F

Patent

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Details

C02F 1/32 (2006.01) A61L 2/10 (2006.01) B01J 19/12 (2006.01)

Patent

CA 2660719

There is described a fluid treatment system. The fluid treatment system comprises: an open channel for receiving a flow of fluid and a fluid treatment zone. The fluid treatment zone comprising a plurality of elongate radiation source assemblies orientated such that: (i) a longitudinal axis of each radiation source assembly is transverse to a direction of fluid flow through the fluid treatment zone, and (ii) an end of each radiation source assembly is disposed above a predetermined maximum height of fluid flow in the open channel. A first baffle plate is disposed upstream of the fluid treatment zone. The first baffle plate is positioned such that a distal end thereof is below the predetermined maximum height of fluid flow in the open channel. In a preferred embodiment, the present fluid treatment system provides for an area in which a cleaning system for the radiation source assemblies can be "parked" when not in use. In the so- called "parked" position, the cleaning system may be readily accessed for servicing and the like without affecting the flow of fluid through the fluid treatment zone and a fluid treatment system. This is as significant advantage of the fluid treatment system.

La présente invention concerne un système de traitement de liquides. Ce système comporte: un canal ouvert pour recevoir un écoulement de liquide et une zone de traitement de liquide. La zone de traitement de liquide comporte une pluralité d'ensembles source de rayonnement de forme allongée orientés de sorte que : (i) un axe longitudinal de chaque ensemble source de rayonnement est transversale à un sens d'écoulement de liquide dans la zone de liquide, et (ii) qu'une extrémité de chaque ensemble source de rayonnement est disposée au-dessus d'un niveau maximum prédéterminé d'écoulement de liquide dans le canal ouvert. Une première chicane est disposée en amont de la zone de traitement. La première chicane est positionnée de sorte que son extrémité distale se trouve en-dessous du niveau maximum prédéterminé d'écoulement de liquide dans le canal ouvert. Dans un mode de réalisation préféré, ce système de traitement de liquide comporte une zone dans laquelle un système de traitement pour les ensembles source de rayonnement peut être rangé lorsqu'il n'est pas utilisé. Dans ladite position rangée, il est possible d'accéder facilement au système de traitement pour l'entretien, par exemple, sans agir sur l'écoulement de liquide dans la zone de traitement et du système de traitement de liquide. Cela représente un avantage important du système de traitement de liquide.

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