Fluorinated adamantane derivatives

Details Fluorinated adamantane derivatives Fluorinated adamantane derivatives

C - Chemistry, Metallurgy

07

C

C07C 69/753 (2006.01) C07C 35/52 (2006.01) C07C 69/00 (2006.01) C07C 69/708 (2006.01)

Patent

CA 2509158

The invention provides novel compounds useful in the production of fluorinated adamantane derivatives which are excellent in etching resistance and useful as photolithographic material and so on, that is, compounds represented by the general formulae (3) and (4): A(-G-Q-R)n (3) Af(-Gf-Q-Rf)n (4) wherein A is an n-valent group derived from adamantine by the removal of n hydrogen atoms in which the residual hydrogen atoms may be each replaced by alkyl; R is a fluorine-containing monovalent organic group; n is an integer of 1 to 4; G is - CH2- or a single bond; Q is -COO- or -OCO-; Af is an n-valent group as defined for A wherein at least one of the hydrogen atoms forming C-H linkages is replaced by fluorine; Rf is a fluorine-containing monovalent organic group; and Gf is -CF2- or a single bond.

L'invention concerne des nouveaux composés représentés par les formules (3) et (4) utilisés dans la production de dérivés fluorés de l'adamantane, lesquels présentent une excellente résistance au mordançage, et sont également utilisés en tant que matériau photolithographique, entre autres. Dans les formules (3) et (4), A représente un groupe à valence n provenant de l'adamantane par extraction de n atomes d'hydrogène, les atomes d'hydrogènes résiduels pouvant être remplacés par un alkyle; R représente un groupe organique monovalent à teneur en fluor; n représente un entier relatif compris entre 1 et 4; G représente -CH¿2?- ou une liaison simple; Q représente -COO- ou -OCO-; A?f¿ représente un groupe à valence n tel qu'il est défini pour A, au moins l'un des atomes d'hydrogène formant des liaisons C-H étant remplacé par du fluor; R?f¿ représente un groupe organique monovalent à teneur en fluor; et G?f ¿représente -CF2- ou une liaison simple.

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