C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
402/13, 260/447.
C07F 7/08 (2006.01) C07F 7/12 (2006.01) C07F 7/14 (2006.01) C07F 7/18 (2006.01) C07F 7/21 (2006.01) C08G 77/24 (2006.01)
Patent
CA 1247119
PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention a pour objet des fluorosilanes de formule générale(I): Image (I) caractérisé en ce que R1 représente un atome d'halogène ou un groupe alcoxy; R2 et R3 représente chacun un atome d'hydrogène ou d'halogène, un groupe alcoxy ou un radical alkyle ou aryle; n est égal à 1 ou 2 et RF représente un radical partiellement ou totalement fluoré. L'invention concerne également un procédé de préparation de ces fluorosilanes par addition radicalaire d'un thiol silicié sur une oléfine fluorée. Ces fluorosilanes sont utiles comme intermédiaires pour la fabrication de silicones fluorés.
495074
Boutevin Bernard
Pietrasanta Yves
Atochem
Robic Robic & Associes/associates
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1307137