H - Electricity – 01 – J
Patent
H - Electricity
01
J
H01J 37/317 (2006.01)
Patent
CA 2585050
A mask suitable for use with a particle beam source such as ion or electron source for forming features and structures and writing on surfaces of materials. The mask comprising an aperture plate (1), having a plurality of apertures (8), and focussing means disposed to underlie the aperture plate. The plurality of apertures forming an array whereby each plate aperture is adapted to receive a portion of a particle beam incident on the aperture plate. Each portion of particle beam then passes through focusing means through which the portion of beam is focussed onto the surface. The mask thereby forming a plurality of high resolution simultaneously operable focussed particle beams.
Masque destiné à être utilisé avec une source de faisceaux de particules, telle qu'une source d'ions ou d'électrons, pour la formation de caractéristiques et de structures ainsi que pour l'écriture sur des surfaces de matériaux. Ce masque comprend une plaque à fenêtres comptant une pluralité de fenêtres et un dispositif de focalisation venant se placer sous ladite plaque. La pluralité d'ouvertures forme une matrice dont chaque ouverture est conçue pour recevoir une partie du faisceau frappant la plaque à fenêtres. Chaque portion du faisceau de particules traverse ensuite le dispositif de focalisation, qui la concentre sur la surface. Le masque forme ainsi une pluralité de faisceaux de particules focalisés à haute résolution utilisables simultanément.
Eastham Derek Anthony
Adams Patent & Trademark Agency
Nfab Limited
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1973075