C - Chemistry – Metallurgy – 07 – H
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
H
C07H 19/01 (2006.01) A61K 31/7048 (2006.01) A61K 31/7056 (2006.01) A61P 3/04 (2006.01) A61P 3/10 (2006.01) A61P 43/00 (2006.01)
Patent
CA 2658921
Disclosed is a compound represented by the formula (I) below, a prodrug thereof, or a pharmaceutically acceptable salt of any of them. Also disclosed are a pharmaceutical product, a pharmaceutical composition and the like, each containing the compound. [In the formula (I), R1, R2, R3 and R4 independently represent one selected from a hydrogen atom, an optionally substituted C1-6 alkyl group, an optionally substituted C7-14 aralkyl group and -C(=O)Rx; n represents an integer selected from 1 and 2; and ring Ar represents a group selected from the groups represented by the following formulae(a)-(f).]
L'invention concerne un composé représenté par la formule (I) ci-dessous, un promédicament de celui-ci ou un sel acceptable d'un point de vue pharmaceutique de ceux-ci. L'invention concerne également un produit pharmaceutique, une composition pharmaceutique et leurs analogues, contenant chacun le composé. [Dans la formule (I), R1, R2, R3 et R4 représentent indépendamment un élément sélectionné parmi un atome d'hydrogène, un groupe alkyle C1-6 éventuellement substitué, un groupe aralkyle C7-14 éventuellement substitué et -C(=O)Rx; n représente un entier sélectionné entre 1 et 2; et le cycle Ar représente un groupe sélectionné parmi les groupes représentés par les formules (a)-(f) suivantes.]
Emura Takashi
Kobayashi Takamitsu
Nishimoto Masahiro
Ohtake Yoshihito
Sato Tsutomu
Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1712142