H - Electricity – 01 – S
Patent
H - Electricity
01
S
H01S 3/22 (2006.01) H01S 3/036 (2006.01) H01S 3/225 (2006.01)
Patent
CA 2198715
An excimer gas laser using a fluorine/krypton/neon gas mixture is provided with separate fluorine/neon and krypton/neon gas sources for use in replenishing the gas mixture. A bleed-down mechanism is also for provided for draining a portion of the gas mixture from the excimer laser. A control mechanism controls operation of the separate fluorine/neon and krypton/neon source and the bleed-down mechanism to selectively vary the gas mixture within the excimer laser to maintain an overall optimal laser efficiency. Preferably, the control system monitors operational parameters of the excimer laser including gain, wavelength, bandwidth and pulse rate, to determine whether the gas mixture within the excimer laser may have changed from an optimal mixture. The control system controls operation of the separate fluorine/neon and krypton/neon sources to compensate for changes in the operation parameters of the laser to thereby maintain high overall laser efficiency. Alternatively, gas replenishment is controlled subject to pre- determined empirically-based gas replenishment strategies.
L'invention se rapporte à un laser excimère à gaz utilisant un mélange de gaz de fluor/krypton/néon et intégrant des sources de gaz séparées de fluor/néon (32) et krypton/néon (34) qui permettent de réalimenter le mélange en gaz. Un mécanisme d'évacuation vers le bas (36) draine une partie du mélange gazeux à partir du laser excimère. Un mécanisme de régulation (44) régule le fonctionnement des sources séparées de fluor/néon (32) et de krypton/néon (34), et le mécanisme d'évacuation vers le bas (36) modifie sélectivement la teneur du mélange gazeux dans le laser excimère afin que celui-ci conserve une efficacité optimale totale. De préférence, le système de régulation (44) contrôle les paramètres de fonctionnement du laser excimère, tels que le gain, la longueur d'onde, la largeur de bande et la cadence de répétition des impulsions afin de déterminer toute modification éventuelle du mélange gazeux du laser excimère par rapport à un mélange optimal. Le système de régulation régule le fonctionnement des sources séparées de fluor/krypton et de krypton/néon pour compenser les modifications intervenues dans les paramètres de fonctionnement du laser et conserver par conséquent une haute efficacité totale. Selon une autre variante, on peut utiliser des procédés stratégiques prédéterminés, établis sur une base empirique, pour réguler une réalimentation en gaz.
Cymer Inc.
Riches Mckenzie & Herbert Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1786464