C - Chemistry – Metallurgy – 12 – N
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
12
N
C12N 15/09 (2006.01) A61K 39/395 (2006.01) C07K 16/46 (2006.01) C12N 5/10 (2006.01) C12P 21/08 (2006.01)
Patent
CA 2676529
Disclosed are: a genetically recombinant antibody composition which has a CH2 domain having the substitution of an amino acid residue at position-276 and position-339 numbered according to the EU index as in Kabat et al. in a human IgG1 antibody and has an enhanced complement-dependent cytotoxicity compared to an antibody having a CH2 domain without any amino acid residue substitution therein; an antibody molecule contained in the genetically recombinant antibody composition, or DNA encoding a heavy-chain constant region of the antibody molecule; a transformant produced by introducing the DNA into a host cell; a method for producing a genetically recombinant antibody composition by using the transformant; and a pharmaceutical agent comprising the genetically recombinant antibody composition as an active ingredient.
La présente invention concerne : une composition d'anticorps génétiquement recombinés qui comprend un domaine CH2 présentant la substitution d'un radical acide aminé en position 276 et en position 339 numérotées selon l'indice EU de la numérotation de Kabat (Kabat et al.) dans un anticorps IgG1 humain et a une cytotoxicité dépendant du complément améliorée en comparaison avec un anticorps présentant un domaine CH2 dépourvu de substitution de radical acide aminé; une molécule d'anticorps contenue dans la composition d'anticorps génétiquement recombinés, ou l'ADN codant pour une région constante à chaîne lourde de la molécule d'anticorps; un transformant produit par introduction de l'ADN dans une cellule hôte; un procédé de production d'une combinaison d'anticorps génétiquement recombinés au moyen du transformant; et un agent pharmaceutique comprenant la composition d'anticorps génétiquement recombinés comme principe actif.
Natsume Akito
Niwa Rinpei
Shitara Kenya
Goudreau Gage Dubuc
Kyowa Hakko Kirin Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1647887