C - Chemistry – Metallurgy – 12 – N
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
12
N
C12N 15/12 (2006.01) C07K 14/47 (2006.01) C07K 16/18 (2006.01)
Patent
CA 2333908
A group of genes consisting of 100 genes which are highly expressed in human dendritic cells; a group of genes which are expressed at a higher frequency in human dendritic cells than in human monocytes; and a group of genes which are expressed at a lower frequency in human dendritic cells than in human monocytes. The group of genes consisting of 100 genes which are most frequently expressed in human dendritic cells are characterized in that cDNAs of these genes respectively have the base sequences of SEQ ID NOS: 1 to 100 each in continuous with the base sequence 5'-CATG-3' located most closely to the poly-A region. A group of the cDNAs of the genes constituting each of the above groups; novel genes involved in these gene groups; and a group of oligonucleotide for specifying these genes and cDNAs.
Cette invention concerne un groupe de 100 gènes exprimés fortement dans des cellules dendritiques humaines; un groupe de gènes exprimés dans les cellules dendritiques humaines selon une fréquence plus élevée que dans les monocytes humains; un groupe de gènes exprimés dans les cellules dendritiques humaines selon une fréquence moins élevée que dans les monocytes humains. Les gènes du groupe de 100 qui sont exprimés le plus fréquemment dans des cellules dendritiques humaines se caractérisent en ce que leurs ADNc ont comme séquences de base SEQ ID Nos : 1 à 100 adjacentes à la séquence de base 5'CATG-3' la plus proche de la région poly-A. L'invention concerne un groupe d'ADNc des gènes constituant chacun des groupes ci-dessus, de nouveaux gènes intervenant dans ces groupes de gènes et un groupe d'oligonucléotides permettant de spécifier lesdits gènes et ADNc.
Hashimoto Shinichi
Matsushima Kouji
Suzuki Takuji
Japan Science And Technology Corporation
Ogilvy Renault
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1822254