H - Electricity – 01 – L
Patent
H - Electricity
01
L
H01L 43/06 (2006.01) G01R 33/07 (2006.01)
Patent
CA 2405149
A Hall-effect element includes an isolating layer and an active layer of a first electrical conductivity type disposed on the isolating layer, the active layer having a surface. A first set of contacts is disposed in contact with the surface along a first axis, and a second set of contacts is disposed in contact with the surface along a second axis transverse to the first axis. An insulating layer is disposed on the surface. A metal control field plate is disposed on the insulating layer and is coupleable to a voltage source to control the accumulation of charge carriers at the surface of the active layer to vary the resistance of the active layer. Also, a method is provided for reducing null offset in a Hall-effect element. The method includes the steps of providing an isolating layer, disposing an active layer of a first electrical conductivity type on the isolating layer, the active layer having a surface, disposing a first set of contacts on the surface along a first axis, disposing a second set of contacts on the surface along a second axis transverse to the first axis; and disposing an insulating layer on the surface. A voltage is applied across the insulating layer to control the accumulation of charge carriers at the surface to vary the resistance of the active layer.
Cette invention concerne un élément à effet Hall comprenant une couche isolante et une couche active caractérisée par un premier type de conductivité électrique et disposée sur la couche isolante, cette couche active présentant une surface. Un premier jeu de contacts se trouve en contact avec la surface selon un premier axe et un second jeu de contacts se trouve en contact avec la surface selon un second axe perpendiculaire au premier axe. Une couche isolante est disposée sur la surface. Une plaque de métal à champ de commande, qui est disposée sur la plaque isolante, peut être reliée à une source de tension, ce qui commande l'accumulation de porteurs de charge à la surface de la couche active et fait varier la résistance de la plaque active. L'invention porte également sur un procédé permettant de réduire la tension de décalage nul dans un élément à effet Hall. Ce procédé consiste à : réaliser une couche isolante ; disposer une couche active caractérisée par une première conductivité électrique sur la couche isolante, cette couche active présentant une surface ; disposer un premier jeu de contacts sur la surface selon un second axe perpendiculaire au premier axe; et disposer une couche isolante sur la surface. Une tension appliquée sur la couche isolante commande l'accumulation de porteurs de charge à la surface et fait varier la résistance de la couche active.
Haji-Sheikh Michael J.
Matzen Walter T.
Plagens Mark R.
Gowling Lafleur Henderson Llp
Honeywell International Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1621570