G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/004 (2006.01) C07C 251/32 (2006.01) C07C 317/04 (2006.01)
Patent
CA 2511979
Compounds of the formula (I) or (II) wherein R1 is C1-C10haloalkylsulfonyl, halobenzenesulfonyl, C2-C10haloalkanoyl, halobenzoyl; R2 is halogen or C1- C10haloalkyl; Arl is phenyl, biphenylyl, fluorenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl, or heteroaryl, all of which are optionally substituted; Ar'1 is for example phenylene, naphthylene, diphonylene, heteroarylene, oxydiphenylene, phenyleneD-D1-D-phenylene or -A r'1-A1-Y1-A1-A r'1-; wherein these radicals optionally are substituted; Ae', is phenylene, naphthylene, anthracylene, phenanthrylene, or heteroarylene, all optionally substituted; A, is for exampfe a direct bond, -0-, -S-, or -NR6-; Y, inter alia is C1- C18alkylene; X is halogen; D is for example -0-, -S- or -NR6-; D, inter alia is C1-C18alkylene; are particularly suitable as photolatent acids in ArF resist technology.
L'invention concerne des composés de formule I ou II, dans laquelle R¿1? représente C¿1?-C¿10?haloalkylsulfonyle, halobenzènesulfonyle, C¿2?-C¿10?haloalkanoyle, halobenzoyle; R¿2? désigne halogène ou C¿1?-C¿10?haloalkyle; Ar¿1? représente phényle, biphénylyle, fluorényle, naphtyle, anthracyle, phénantryle ou hétéroaryle, tous étant éventuellement substitués; Ar'¿1? représente, par exemple, phénylène, naphtylène, diphénylène, hétéroarylène, oxydiphénylène, phénylèneD-D¿1?-D-phénylène ou Ar''¿1?-A¿1?-Y¿1?-A¿1?-Ar''¿1?-; ces radicaux étant éventuellement substitués; Ar'¿1? représente phénylène, naphtylène, anthracylène, phénantrylène ou hétéroarylène, tous éventuellement substitués; A désigne, par exemple, une liaison directe -0-, -S-, ou -NR¿6?-; Y désigne inter alia C¿1?-C¿18?alkylène; X représente halogène; D représente, par exemple, -0-, -S- ou -NR¿6?-; D désigne inter alia C¿1?-C¿18?alkylène; particulièrement appropriés pour être utilisés comme acides photolatents dans la technologie de résist ArF.
Asakura Toshikage
Hintermann Tobias
Matsumoto Akira
Murer Peter
Yamato Hitoshi
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2013057