C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 471/04 (2006.01) A61K 31/437 (2006.01) A61K 31/445 (2006.01) A61K 31/4453 (2006.01) A61K 31/4545 (2006.01) A61K 31/496 (2006.01) A61K 31/519 (2006.01) A61K 31/5377 (2006.01) A61K 31/55 (2006.01) A61P 3/10 (2006.01) A61P 9/10 (2006.01) A61P 13/12 (2006.01) A61P 25/00 (2006.01) A61P 43/00 (2006.01) C07D 487/04 (2006.01)
Patent
CA 2490526
Compounds represented by the general formula (I) or pharmacologically acceptable salts thereof: (I) wherein X.cndot..cndot.Y.cndot..cndot.Z is R5N- C=O (wherein R5 is hydrogen, substituted or unsubstituted lower alkyl, substituted or unsubstituted aralkyl, substituted or unsubstituted lower alkenyl, or substituted or unsubstituted lower alkynyl) or the like; R1 and R2 are each independently hydrogen, substituted or unsubstituted lower alkyl, or the like; and R3 and R4 are each independently hydrogen, substituted or unsubstituted lower alkyl, or the like.
Cette invention se rapporte à des composés représentés par la formule générale (I) ou à des sels de ces composés acceptables sur le plan pharmacologique. Dans cette formule, X..Y..Z représentent R?5¿N-C=O (où R?5¿ représente hydrogène, alkyle inférieur substitué ou insubstitué, araylkyle substitué ou insubstitué, alcényle inférieur substitué ou insubstitué ou alkynyle inférieur substitué ou insubstitué) ou similaire; R?1¿ et R?2¿ représentent chacun séparément hydrogène, alkyle inférieur substitué ou insubstitué ou similaire; et R?3¿ et R?4¿ représentent chacun séparément hydrogène, alkyle inférieur substitué ou insubstitué, ou similaire.
Arai Hitoshi
Iwase Miho
Kusaka Hideaki
Machii Daisuke
Matsumura Tsutomu
Goudreau Gage Dubuc
Kyowa Hakko Kogyo Co. Ltd
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1520921