C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 519/00 (2006.01) C07B 60/00 (2011.01) A61K 31/58 (2006.01) A61K 49/00 (2006.01) C07D 493/04 (2006.01) C07D 495/04 (2006.01) C07D 497/04 (2006.01) C07D 497/22 (2006.01) C07F 7/08 (2006.01)
Patent
CA 2222331
The invention provides novel persistent free radicals useful in Overhauser MRI being triarylmethyl radicals having as at least one aryl group a group of formula (1) or (2), wherein each X which may be the same or different is an oxygen or sulphur atom or a group CO or S(O)n (where n is 1 to 3) with the proviso that at least one group X is a sulphur atom or an S(O)n group; R1 is a hydrogen atom or group of formula -M, -XM, -X-Ar2 where M is a water solubilising group, and Ar2 represents a 5-10 membered aromatic ring optionally substituted by a water solubilising group M; and each of the groups R7, which may be the same or different, is a hydrogen atom, or a hydrocarbon group or a water solubilising group M, or two groups R7 together with the atom to which they are bound represent a carbonyl group or a 5 to 8 membered cycloalkylidene, mono- or di-oxacycloalkylidene, mono or di-azacycloalkylidene or mono- or di-thiacycloalkylidene group optionally wit the ring attachment carbon replaced by a silicon atom, and R7 where it is other than hydrogen, is optionally substituted by a hydroxyl group, an optionally alkoxylated, optionally hydroxylated acyloxy or alkyl group or a water solubilising group M. The novel radicals have good stability, long relaxation times and good relaxivity.
L'invention concerne de nouveaux radicaux libres persistants, utilisés en imagerie par résonance magnétique avec effet Overhauser, à savoir des radicaux triarylméthyle comprenant au moins un groupe aryle qui est un groupe de la formule (1) ou (2). Dans lesdites formules: les X, qui peuvent être identiques ou différents, représentent chacun un atome d'oxygène ou de soufre ou bien un groupe CO ou S(O)¿n? (où n peut valoir de 1 à 3) à condition qu'au moins un groupe X soit un atome de soufre ou un groupe S(O)¿n?; R?1¿ représente un atome d'hydrogène ou un groupe de formule -R, -XM, -X-Ar?2¿ ou bien -Ar?2¿, où M représente un groupe de solubilisation à l'eau, et Ar?2¿ représente un noyau aromatique ayant 5 à 10 éléments éventuellement substitués par un groupe M de solubilisation à l'eau; et les groupes R?7¿, qui peuvent être identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un groupe hydrocarbure ou un groupe M de solubilisation à l'eau, ou bien deux groupes R?7¿ représentent avec l'atome auxquels ils sont liés un groupe carbonyle ou un groupe cycloalkylidène mono-oxacycloalkylidène ou dioxacycloalkylidène, monoazacycloalkylidène ou diazacycloalkylidène, ou monothiacycloalkylidène ou dithiacycloalkylidène ayant chacun 5 à 8 éléments et dont le carbone de fixation du noyau est éventuellement remplacé par un atome de silicium, R?7¿ étant éventuellement, lorsqu'il ne représente pas hydrogène substitué par un groupe hydroxyle, un groupe alkyle ou acyloxy éventuellement alcoxylé ou hydroxylé ou un groupe M de solubilisation à l'eau. Ces nouveaux radicaux sont très stables et présentent de longs temps de relaxation et une bonne aptitude à la relaxation.
Andersson Sven
Radner Finn
Rydbeck Anna
Servin Rolf
Wistrand Lars-Goran
Fetherstonhaugh & Co.
Nycomed Imaging A/s
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1673665