C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/34 (2006.01) C09K 11/08 (2006.01)
Patent
CA 2607620
Provided is a sputtering target for forming a phosphor film in an eleotroluminescence element, which can maintain high strength even when it is allowed to stand in the atmosphere for a long time. The target has a chemical composition of Al: 20 to 50 mass%, Eu: 1 to 10 mass%, and the remainder containing Ba and inevitable impurities, and has a structure wherein Ba in which Eu is solid solubilized and Al form an intermetallic compound phase, wherein the intermetallic compound phase of Ba in which Eu is solid-solubilized and Al includes a BaAl4 intermetallic compound phase and a Ba7Al13 intermetallic compound phase, and Eu forms a solid solution with Ba in the BaAl4 intermetallic compound and in the Ba7Al13 intermetallic compound, respectively.
L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique pour élaborer un film de phosphore dans un élément d'électroluminescence, susceptible de maintenir une résistance élevée même en reposant dans l'atmosphère pour une période prolongée. Elle concerne une cible ayant la composition chimique suivante - Al : de 20 à 50 % en masse, Eu : de 1 à 10 % en masse, et le solde : Ba et les inévitables impuretés, et une structure dans laquelle Ba comportant de l'Eu solubilisé solide et Al forment une phase de composé intermétallique, où la phase de composé intermétallique ci-dessus de Ba dans lequel Eu est solubilisé solide comprend une phase de composé intermétallique BaAl4 et une phase de composé intermétallique Ba7All3 et Eu forme une solution solide avec Ba dans le composé intermétallique BaAl4 ci-dessus et dans le composé intermétallique Ba7All3 ci-dessus, respectivement.
Komiyama Shozo
Mishima Akifumi
Zhang Shoubin
Mitsubishi Materials Corporation
Riches Mckenzie & Herbert Llp
LandOfFree
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