C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 211/00 (2006.01) C07D 211/46 (2006.01)
Patent
CA 2427638
Compounds and methods of preparing compounds of the formula: (I) wherein n is an integer from 1 to 15, m is either 0 or 1; Ra, Rb, Rc, and Rd are each a hydrogen or ahydrocarbyl group; Y is CO-(CReRf)p, wherein Re and Rf are each a hydrogen or hydrocarbyl group and p is zero or an integer from 1 to 20 or CO- C6H4-, wherein the substitution pattern on the phenylene group is an ortho, meta, or para substitution pattern and one or more of the hydrogens of the phenylene group may be substituted by a hydrocarbyl group or a functional group; Z is O- or NG-, wherein Gis H, C1-C12alkyl or the radical R; wherein R is (I) wherein R1 is hydrogen, C1-C18alkyl, O, OH, CH2CN, C1C18 alkoxy, C1-C18 hydroxyalkoxy, C5-C12 cycloalkoxy, C5-C12 hydroxycycloalkoxy, C3-C6 alkenyl, C1-C18 alkynyl, C7-C9 phenylalkyl, unsubstituted or substituted on the phenyl with 1, 2 or 3 C1-C4 alkyls, or an aliphatic C1-C8 acyl; R2 is hydrogen, C1-C8 alkyl, or benzyl; R3, R4,R5, and R6 are each a hydrogen, C1-C8 acyl; R2 is hydrogen, C1-C8 alkyl, or benzyl; R3,R4,R5, and R6 are each a hydrogen, C1-C8 alkyl, benzyl, or phenethyl, or two geminal R moieties, which together with the carbon to which they are attached form a C5-C10 cycloalkyl; and A is either ZR or a hydrocarbyl group, which are useful for stabilizing polymer compositions against photo-and thermal degradation.
L'invention porte sur des composés et des méthodes de préparation de composés de formule: (I) dans laquelle: n est un entier de 1 à 15, m est soit 0 ou 1; R?a¿, R?b¿, R?c¿, et R?d¿ sont chacun un hydrogène ou un groupe hydrocarbyle; Y est CO-(CR?e¿R?f¿)¿p? (dans lequel R?e¿ et R?f¿ sont chacun un hydrogène ou un groupe hydrocarbyle et p est zéro ou un entier de 1 à 20 ou CO-C¿6?H¿4?-); le schéma de substitution du groupe phénylène est une substitution ortho, méta, ou para et un ou plusieurs des hydrogènes du groupe phénylène peuvent être substitués par un groupe hydrocarbyle ou un groupe fonctionnel; Z est O- ou NG-; G est H, C¿1?-C¿12?alkyle, ou le radical R de formule (II) dans laquelle: R?1¿ est hydrogène, C¿1?-C¿18?alkyle, O, OH, CH¿2?CN, C¿1?C¿18? alkoxy, C¿1?-C¿18 ?hydroxyalkoxy, C¿5?-C¿12? cycloalkoxy, C¿5?-C¿12? hydroxycycloalkoxy, C¿3?-C¿6? alcényle, C¿1?-C¿18? alkynyle, C¿7?-C¿9? phénylalkyle, non substitué ou substitué sur le phényle par 1, 2 ou 3 C¿1?-C¿4? alkyles, ou un aliphatique C¿1?-C¿8? acyle aliphatique; R?2¿ est hydrogène, C¿1?-C¿8? alkyle, ou benzyle; R?3¿, R?4¿,R?5¿, et R?6¿ sont chacun un hydrogène, C¿1?-C¿8? acyle; R?2¿ est hydrogène, C¿1?-C¿8? alkyle, ou benzyle; R?3¿,R?4¿,R?5¿, et R?6¿ sont chacun un hydrogène, C¿1?-C¿8? alkyle, benzyle, ou phénéthyle, ou deux fragments jumeaux R, formant ensemble avec le carbone auquel ils sont attachés un C¿5?-C¿10 ?cycloalkyle; et A est soit ZR ou un groupe hydrocarbyle, et qui s'avèrent utiles pour stabiliser les compositions de polymères contre les dégradations sous l'effet de la lumière et de la chaleur.
Gupta Ram Baboo
Sassi Thomas Patrick
Cytec Technology Corp.
Smart & Biggar
LandOfFree
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