C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 309/08 (2006.01) A61K 31/445 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) C07D 405/12 (2006.01)
Patent
CA 2456291
A compound of formula (I) wherein : R1 and R2, which may be the same or different, is each a hydrogen atom or a CF3, CF2H or CFH2 group, provided that when one of R1 or R2 is a hydrogen atom the other is a CF3, CF2H or CFH2 group ; and the salts, solvates or hydrates thereof. The compounds are potent MMP inhibitors which advantageously do not cause tendonitis in a relevant animal model. The compounds may be expected to be of use in medicine, especially where the avoidance of side effects such as joint pain is desired.
L'invention concerne un composé de formule (I), dans lequel R?1¿ et R?2¿, qui peuvent être les mêmes ou différents, sont chacun un atome d'hydrogène ou un groupe CF¿3?, CF¿2?H ou CFH¿2?, à condition que, lorsque soit R?1¿ ou R?2¿ est un atome d'hydrogène, l'autre constituant est un groupe CF¿3?, CF¿2?H ou CFH¿2?; et des sels, des solvates ou des hydrates de ceux-ci. Ces composés sont des inhibiteurs puissants de MMP, présentant l'avantage de ne pas provoquer de tendinite chez un modèle animal approprié. Ces composés peuvent être utilisés en médecine, en particulier, lorsque l'on souhaite éviter des effets secondaires tels que des douleurs articulaires.
Dyke Hazel Joan
Watson Robert John
Celltech R&d Limited
Kirby Eades Gale Baker
Ucb Pharma S.a.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1859558