G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/20 (2006.01) B29C 67/00 (2006.01)
Patent
CA 2754337
The invention concerns an illumination system (30) for use in a stereolithography apparatus (1), comprising: a planar support (31); a multilens projector array (40) mechanically supported on the planar support 31 over the array 32 on a piano side 46, and having a work surface (451) arranged to receive a resin applying device (60) for applying a resin layer 16, the projector array 40 comprising a stack of optical elements, including a plurality of lenslets (44) adapted to project the LEDs onto the work surface (451), and a two-dimensional array (32) of individually controllable light- emitting diodes (LEDs) (34) arranged between the planar support (31) and the multilens projector (40). According to an aspect, the planar support (31) and the piano side 46 are supported on contact zones (33, 400) arranged over substantially the entire piano side 46; the illumination system thus forming a rigid body 30.
La présente invention concerne un système d'éclairage (30) destiné à un appareil de stéréolithographie. Ce système comprend un support plan (31) et un réseau de projecteurs multi-objectif (40). Le réseau de projecteurs multi-objectif (40) repose mécaniquement sur le support plan (31) au-dessus du réseau (32) se trouvant sur le flanc d'un piano (46), et présentant une surface de travail (451) organisée pour recevoir un appareil applicateur de résine (60) servant à l'application d'une couche de résine (16). Le réseau de projecteur (40) comprend, d'une part une pile d'éléments optiques, et notamment une pluralité de petites lentilles (44) conçues pour projeter sur la surface de travail (451) la lumière des diodes électroluminescentes, et d'autre part un réseau bidimensionnel (32) de diodes électroluminescentes ou "LED" individuellement commandées (34) disposées entre le support plan (31) et le projecteur multi-objectif (40). Selon un aspect de l'invention, le support plan (31) et le flanc de piano (46) reposent sur des zones de contact (33, 400) occupant sensiblement la totalité du flanc du piano (46), ce qui fait que le système d'éclairage forme un corps rigide (30).
Jamar Jacobus Hubertus Theodoor
Kooistra Jentske D.
Kruizinga Borgert
Rijfers Andries
Vaes Mark Herman Else
Dsm Ip Assets B.v.
Fetherstonhaugh & Co.
Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk On
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2081605