Imposing and determining stress in sub-micron samples

Details Imposing and determining stress in sub-micron samples Imposing and determining stress in sub-micron samples

G - Physics

01

L

G01L 5/00 (2006.01) G01L 5/18 (2006.01)

Patent

CA 2678071

This invention provides a method and device for imposing and determining mechanical stress and/or strain, on micro-scale and nano-scale beams, films or multi-layers of materials such as metallic materials, polymer materials, ceramic materials, carbon-based materials and silicon-based materials using a set of micro- or nano-machines. The present invention also provides methods to derive and modify various properties or state of such nano- or microstructures, among others mechanical properties, and to measure the external stimulus that they are subjected to.

La présente invention se rapporte à un procédé et à un dispositif adaptés pour appliquer et déterminer une charge et/ou une contrainte mécanique sur des poutres à l'échelle du micromètre et à l'échelle du nanomètre, des films ou des couches multiples de matériaux - comme, par exemple, des matériaux métalliques, des matériaux polymères, des matériaux céramiques, des matériaux à base de carbone, et des matériaux à base de silicium - en utilisant un ensemble de machines micrométriques ou nanométriques. La présente invention se rapporte également à des procédés adaptés pour faire dériver et pour modifier diverses propriétés ou bien un état de ces microstructures ou de ces nanostructures - entre autres propriétés mécaniques - et pour mesurer le stimulus externe auquel elles sont soumises.

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Profile ID: LFCA-PAI-O-1500594