Improved nanoimprint method

G - Physics – 03 – F

Patent

Rate now

  [ 0.00 ] – not rated yet Voters 0   Comments 0

Details

G03F 7/00 (2006.01)

Patent

CA 2734952

The invention relates to a method for applying a structured coating made of resist (2a, 12a) onto a surface of a substrate (6, 16). The method comprises at least one impression step in which flowable resist (2, 12) is stamped between a structured surface of a stamp (1, 11) and a support (3, 13) in order to provide the stamp surface with a structured resist coating (2, 12), a subsequent separating step, respectively, in which the stamp, comprising a first section (2a, 12a) of the structured resist coating and the support, comprising a second section (2b, 12b) of the resist coating, are separated from one another, a subsequent transfer step in which the first section (2a, 12a) of the structured resist coating on the surface of the stamp (1, 11) is pressed against the surface of the substrate (6, 16) in order to transfer the structured resist coating (2a, 12a) onto the surface of the substrate (6, 16), a curing step in which the first section (2a, 12a) of the structured resist coating (2a, 12a) is cured, and a demolding step in which the stamp (1, 11) is separated from the first section (2a, 12a) of the structured resist coating.

L'invention porte sur un procédé pour appliquer un revêtement structuré constitué d'une résine (2a, 12a) sur une surface d'un substrat (6, 16). Il comprend au moins une étape d'estampage dans laquelle une résine fluide (2, 12) est estampée entre une surface structurée d'un tampon (1, 11) et un support (3, 13), pour pourvoir la surface du tampon d'un revêtement de résine structuré (2, 12), une étape de séparation faisant suite à l'étape ci-dessus, dans laquelle le tampon comportant une première partie (2a, 12a) du revêtement de résine structuré et le support comportant une deuxième partie (2b, 12b) du revêtement de résine sont séparés l'un de l'autre, une étape ultérieure de transfert, dans laquelle la première partie (2a, 12a) du revêtement de résine structuré se trouvant sur la surface du tampon (1, 11) est pressée contre la surface du substrat (6, 16) pour transférer le revêtement de résine structuré (2a, 12a) sur la surface du substrat (6, 16), une étape de durcissement, dans laquelle la première partie (2a, 12a) du revêtement de résine structuré (2a, 12a) subit un durcissement complet, ainsi qu'une étape de démoulage, dans laquelle le tampon (1, 11) est séparé de la première partie (2a, 12a) du revêtement de résine structuré.

LandOfFree

Say what you really think

Search LandOfFree.com for Canadian inventors and patents. Rate them and share your experience with other people.

Rating

Improved nanoimprint method does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.

If you have personal experience with Improved nanoimprint method, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Improved nanoimprint method will most certainly appreciate the feedback.

Rate now

     

Profile ID: LFCA-PAI-O-2044321

  Search
All data on this website is collected from public sources. Our data reflects the most accurate information available at the time of publication.