G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/033 (2006.01)
Patent
CA 2430101
An object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition which is excellent in the compatibility (dispersibility) of photosensitive resin composition components, developability with aqueous developer solution, water resistance, image reproducibility, print wear characteristics in printing with a water base ink and plate wiping-off resistance in removal of ink adhered to any printing plate. The present invention relates to a photosensitive resin composition comprising a hydrophilic copolymer (A) obtained by copolymerizing at least (1) 2 to 15 parts by mass of an unsaturated monomer having a carboxyl group, (2) 50 to 80 parts by mass of a conjugated diene-type monomer, (3) 3 to 20 parts by mass of an aromatic vinyl compound, and (4) 3 to 30 parts by mass of an alkyl (meth)acrylate.
La présente invention concerne une composition de résine photosensible se distinguant par sa compatibilité (dispersabilité) avec l'eau et sa développabilité dans l'eau, tout en donnant un cliché se distinguant par sa résistance à l'eau, la reproductibilité des images, la bonne tenue à l'impression avec des encres à base d'eau, et la résistance à l'essuyage pour l'élimination de l'encre adhérant au cliché. Cette composition de résine photosensible se caractérise en ce qu'elle contient un copolymère hydrophile résultant d'une copolymérisation (1) de 2 à 15 parties en masse d'un monomère carboxylé insaturé, (2) de 50 à 80 parties en masse d'un monomère de diène conjugué, (3) de 3 à 20 parties en passe d'un vinyle aromatique, et (4) de 3 à 30 parties en masse d'un alkyle-(méth)acrylate.
Araki Yoshifumi
Kobayashi Hiromi
Asahi Kasei Kabushiki Kaisha
Goudreau Gage Dubuc
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1702473