H - Electricity – 05 – B
Patent
H - Electricity
05
B
H05B 33/22 (2006.01) C03C 8/14 (2006.01) H05B 33/10 (2006.01)
Patent
CA 2561618
An improved smoothing layer for use with a thick film dielectric layer, and improved composite thick film dielectric structure is provided. The smoothing layer is a piezoelectric or ferroelectric material that has a reduced amount of defects. The smoothing layer is formed by the addition of surfactant to a sol gel or metal organic solution of organo metallic precursor compounds. The composite thick film dielectric structure comprises a thick film dielectric composition having a PZT smoothing layer thereon, the smoothing layer being made by a process incorporating surfactant. Both the smoothing layer and the composite thick film dielectric structure are for use in electroluminescent displays.
La présente invention concerne une couche de lissage améliorée conçue pour être utilisée avec une couche diélectrique à film épais, ainsi qu'une structure diélectrique à film épais composite améliorée. La couche de lissage est un matériau piézo-électrique ou ferroélectrique présentant un nombre réduit de défauts. La couche de lissage est formée par addition d'un tensioactif à une solution organique sol-gel ou métallique constituée de composés précurseurs organo-métalliques. La structure diélectrique à film épais composite décrite dans cette invention comprend une composition diélectrique à film épais recouverte d'une couche de lissage PZT, laquelle couche de lissage est obtenue par un procédé qui consiste à ajouter un tensioactif. La couche de lissage et la structure diélectrique à film épais composite sont conçues pour être utilisées dans des écrans électroluminescents.
Lee Gangok
Mahmood Kifah Kamil
Pugliese Vincent Joseph Alfred
Ifire Ip Corporation
Ifire Technology Corp.
Sim & Mcburney
LandOfFree
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