G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/00 (2006.01)
Patent
CA 2690723
An improved method of loading tips and other surfaces with patterning compositions or inks for use in deposition. A method of patterning is described, the method comprising: (i) providing at least one array of tips; (ii) providing a plurality of patterning compositions; (iii) ink jet printing at least some of the patterning compositions onto some of the tips; and (iv) depositing at least some of the patterning compositions onto a substrate surface; wherein the ink jet printing is adapted to prevent substantial cross-contamination of the patterning composition on the tips. Good print-ing reproducibility and control of printing rate can be achieved. The surfaces subjected to inkjet printing can be treated to encourage localization of the ink at the tip. The method is particularly important for high density arrays.
La présente invention concerne un procédé amélioré pour charger des pointes et autres surfaces avec des compositions ou encres en motif à utiliser dans un dépôt. L'invention concerne un procédé de motif, comprenant : (i) la fourniture d'au moins un réseau de pointes, (ii) la fourniture d'une pluralité de compositions en motif, (iii) l'impression par jet d'encre d'au moins certaines des compositions en motif sur certaines des pointes, (iv) le dépôt d'au moins une partie des compositions en motif sur une surface du substrat. L'impression par jet d'encre peut empêcher une contamination croisée considérable de la composition de motif sur les pointes. Une bonne capacité de reproduction d'impression et une bonne commande du débit d'impression peuvent être obtenues. Les surfaces soumises à l'impression par jet d'encre peuvent être traitées pour encourager la localisation de l'encre sur la pointe. Le procédé est particulièrement important pour les réseaux à forte densité.
Giam Louise R.
Mirkin Chad A.
Park Matthew
Wang Yuhang
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Northwestern University
LandOfFree
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