C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 401/06 (2006.01) A61K 31/445 (2006.01) C07D 401/04 (2006.01)
Patent
CA 2330437
The present invention provides compounds represented by general formula (1) wherein R1 is selected from H, OH, OR2 or halogen (F, Cl, Br, I); R2 is lower alkyl (C1 to C6); n is selected from 0, 1 or 2; X is CH or CH2; m is selected from 2, 3 or 4; Y is N or CH; Ar is aryl or heteroaryl, both optionally substituted; or pharmaceutically acceptable salts thereof, as well as methods and pharmaceutical compositions utilizing these compounds for the inhibition of serotonin uptake and the treatment of CNS disorders, particularly depression.
L'invention concerne des composés représentés par la formule générale (1) dans laquelle R¿1? est sélectionné dans H, OH, OR¿2? ou halogène (F, Cl, Br, I); R¿2? représente alkyle inférieur C¿1? à C¿6?; n est sélectionné dans 0, 1 ou 2; X représente CH ou CH¿2?; m est sélectionné dans 2, 3 ou 4; Y représente N ou CH; Ar représente aryle ou hétéroaryle, les deux éventuellement substitués; ou leurs sels acceptables sur le plan pharmaceutique, ainsi que des procédés et des compositions pharmaceutiques mettant en application ces composés afin d'inhiber l'absorption de la sérotonine et de traiter des maladies du système nerveux central, en particulier la dépression.
Kang Young Hee
Kelly Michael Gerard
American Home Products Corporation
Ridout & Maybee Llp
Wyeth
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2073519