C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/513 (2006.01) H01J 37/32 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01)
Patent
CA 2431017
A method and apparatus for injecting a fluid into a plasma stream with a uniform distribution and with reduced likelihood of clogging over prolonged use is provided. An injector (2) includes a first channel portion (6) for restricting a flow of the fluid and having a shape such that inner walls of the first channel portion (2) are parallel to a first axis (9). The injector (2) also includes a second channel portion (8) in fluid communication with the first channel portion (69). The second channel portion (8) includes a recessed portion such that inner walls of the second channel portion (8) diverge from the first axis (9) at a predetermined angle. The second channel portion (8) reduces a buildup of a clogging layer on the inner walls of the second channel portion (8) over a period of use. In addition, the injector (2) can further include a tip portion (28) that protrudes into the plasma. The injector (2) can be integrated into or interchangeable within an injector system that can be designed for operation within a plasma deposition apparatus.
L'invention concerne un procédé et un appareil servant à injecter un fluide dans un flux de plasma, avec un apport régulier et un risque de caillot réduit lors d'une utilisation prolongée. Un injecteur (2) comprend une première partie de canal (6) servant à restreindre un flux de fluide et présentant une forme telle que des parois intérieures de la première partie de canal (6) soient parallèles au premier axe (9). L'injecteur (2) comprend également une seconde partie de canal (8) en communication fluidique avec la première partie de canal (6). La seconde partie de canal (8) comprend une partie en renfoncement telle que des parois intérieures de la seconde partie de canal (8) divergent du premier axe (9) à un angle prédéterminé. La seconde partie de canal (8) permet de réduire la formation d'une couche de caillot sur les parois intérieurs de la seconde partie de canal (8) au cours d'une période d'utilisation. En outre, l'injecteur (2) peut également inclure une partie en pointe (28) qui dépasse pour arriver dans le plasma. L'injecteur (2) peut être intégré dans un système d'injecteur ou interchangeable à l'intérieur d'un système d'injecteur qui peut être conçu pour fonctionner à l'intérieur d'un appareil à dépôt de plasma.
Company General Electric
Craig Wilson And Company
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1413536