H - Electricity – 01 – J
Patent
H - Electricity
01
J
H01J 37/317 (2006.01) H01J 1/16 (2006.01) H01J 9/02 (2006.01) H01J 9/04 (2006.01) H01J 27/08 (2006.01) H01J 37/08 (2006.01) H01L 21/265 (2006.01)
Patent
CA 2220605
A filament plate for an ion beam source assembly of an ion implantation apparatus is disclosed. The filament plate is comprised of tungsten and includes two spaced apart spiral slits through a width of the plate. A gap width of the slits in not substantially greater than ten times a plasma Debye length of ions generated by electrons emitted into an arc chamber. The plate filament is disposed in an arc chamber into which ionizable source materials are injected. The plate includes two conductive posts press fit into openings of the plate for heating the plate to the thermionic emission temperature. The conductive posts extend through insulated openings in a side wall of the arc chamber.
Plaque à filaments pour source de faisceaux d'ions faisant partie d'un appareil d'implantation ionique. Cette plaque à filaments est en tungstène et présente deux fentes en spirale placées à une certaine distance l'une de l'autre suivant la largeur de la plaque. L'ouverture de ces fentes n'est pas sensiblement supérieure à dix fois une longueur de Debye d'un plasma pour les ions produits par émission d'électrons dans un tube à arc. Le filament de la plaque est placé dans un tube à arc dans lequel on introduit des matériaux formant une source ionisable. Cette plaque comporte deux montants conducteurs ajustés par pression dans des ouvertures de la plaque et permettant de réchauffer celle-ci jusqu'à sa température d'émission ionique. Ces montants conducteurs sont insérés dans des ouvertures isolantes sur une paroi latérale du tube à arc.
Axcelis Technologies Inc.
Borden Ladner Gervais Llp
Corporation Eaton
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2087855